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哪些因素可以影響工業(yè)鋁型材微弧氧化處理?
微弧氧化的工藝流程非常簡(jiǎn)單,只要進(jìn)行除油、水洗、微弧氧化再水洗,就可以讓工業(yè)鋁型材表面的陶瓷層具有非常好的耐腐蝕性、耐磨性、柔韌性、耐高溫和強(qiáng)結(jié)合力,使膜層表面光亮且厚度可達(dá)200-300μm。那么微弧氧化處理受哪些因素的影響呢?
1:合金材料及表面結(jié)構(gòu)
微弧氧化處理對(duì)工業(yè)鋁型材的合金成分要求并不高,某些含銅或含硅量較高的鑄鋁合金,采用陽極氧化的方式不能處理,采用微弧氧化的方法都可以處理;對(duì)表面結(jié)構(gòu)也不要求很高,一般不需要進(jìn)行拋光處理,對(duì)于粗糙的表面,經(jīng)微弧氧化后都可達(dá)到更加平整光滑的效果。
2:電解質(zhì)溶液的組成
微弧氧化的電解質(zhì)溶液一般由金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液組成,有硅酸鹽、磷酸鹽等,要想取得優(yōu)質(zhì)的陶瓷膜層,必須要控制好電解質(zhì)溶液的組成。要將電解質(zhì)溶液的pH值控制在9-13的范圍之內(nèi),根據(jù)膜層性質(zhì),決定是否需要添加有機(jī)或無機(jī)鹽的添加劑,在電壓不變的情況下,溶液的濃度越大,成膜的速度越快,溫度上升越慢,溶液的濃度越低,成膜速度越慢,溫度反而會(huì)快速上升,所以電解質(zhì)溶液決定成膜的質(zhì)量。
3:電壓與電流密度
不同的工業(yè)鋁型材基體和不同的電解液,在微弧氧化放電時(shí)形成的擊穿電壓不同,擊穿電壓是指剛發(fā)生在表面的微弧放電電壓,而微弧氧化電壓通常要比擊穿電壓高出上百伏,通常在200-600v的范圍之內(nèi),不同的電壓產(chǎn)生的氧化膜厚度和其它性能都不同,所以微弧氧化電壓對(duì)于成膜很重要。在微弧氧化的電壓剛達(dá)到控制值時(shí),電流密度是最大的,隨著氧化的進(jìn)行,陶瓷膜層的加厚,電流密度越來小,電壓和電流的密度對(duì)于膜層的厚度有很大的影響,所以通過控制電壓和電流密度的方法來進(jìn)行微弧氧化,對(duì)于陶瓷膜的質(zhì)量至關(guān)重要。
4:電解液溫度:微弧氧化的電解液溫度一般控制在20-60℃的范圍之內(nèi),而它的允許值范圍更大,可在10-90℃之間,溫度越高,成膜的速度越快,同時(shí)電解液的揮發(fā)越快,表面粗糙度也越高,微弧氧化是一個(gè)放熱過程,需要配備制冷設(shè)備,在工業(yè)鋁型材的表面會(huì)逸出大量氣體,還要安裝空氣壓縮裝置對(duì)槽液進(jìn)行充分?jǐn)嚢瑁寡趸瘻囟染弧?/span>
5:氧化時(shí)間:微弧氧化的時(shí)間通??刂圃?/span>10-60min的范圍之內(nèi),氧化時(shí)間越長(zhǎng),所形成的陶瓷膜的致密性越好,不過它的表面粗糙度也越高。
6:陰極材料:微弧氧化的陰極材料一般由不溶性金屬材料組成,而電解液一般為堿性溶液,可用碳鋼、不銹鋼或鎳等這些材料作為陰極材料來進(jìn)行微弧氧化處理。